RTP（ルビジウムチタニルホスフェート-RbTiOPO₄）は、EO変調器およびQスイッチに非常に望ましい結晶材料です。損傷閾値が高い（KTPの約1.8倍）、高抵抗、高繰り返し率、吸湿性または圧電効果がないという利点があります。二軸結晶として、RTPの自然な複屈折は、ビームがX方向またはY方向に沿って通過するように特別に方向付けられた2つの結晶ロッドを使用して補償する必要があります。効果的な補正を行うには、一致するペア（同じ長さを一緒に磨く）が必要です。

RTPポッケルスセルは、レーザーレンジング、レーザーライダー、医療用レーザー、産業用レーザーなどで広く使用されています。

WISOPTICは、RTPポッケルスセルの技術コンサルティング、最適化された設計、カスタマイズされたテストサンプル、および高速配信標準製品を提供します。

RTPポッケルスセルのアプリケーションに最適なソリューションについては、お問い合わせください。

RTPポッケルスセルのWISOPTICの利点

•広い光学帯域幅（0.35-4.5μm）

•低挿入損失

•低半波電圧

•低い動作電圧

•高い消光比

•非常に高いレーザー損傷しきい値

•圧電リンギング効果なし

•超高速電圧ドライバーを備えた高繰り返し率レーザーでの正確なスイッチング

•広い温度範囲で動作するように熱補償された設計

•コンパクトなデザイン、取り付けと調整が非常に簡単

•高耐環境性と長寿命の高品質RTPクリスタル

WISOPTIC RTPポッケルスセルの技術データ

結晶サイズ	4x4x10 mm	6x6x10 mm	8x8x10 mm
クリスタルの量	2	2	2
静的半波電圧@ 1064 nm	Xカット：1700 V Yカット：1400 V	Xカット：2500 V Yカット：2100 V	Xカット：3300 V Yカット：2750 V
消光比	Xカット：> 25 dB Yカット：> 23 dB	Xカット：> 23 dB Yカット：> 21 dB	Xカット：> 21 dB Yカット：> 20 dB
キャパシタンス	5〜6 pF
光通信	> 99％
ダメージしきい値	> 600 MW / cm2 10 nsパルス@ 1064 nm（ARコーティング）