熱水法によって開発されたHGTR（高アンチグレートラック）KTP結晶は、フラックス成長KTPのエレクトロクロミズムの一般的な現象を克服し、高電気抵抗、低挿入損失、低半波電圧、高レーザー損傷などの多くの利点がありますしきい値、および広い伝送帯域。

HGTR-KTP結晶で製造されたKTPポッケルスセルは、主に狭いパルス幅と高い繰り返し周波数のパルスレーザーで使用されます。KTPポッケルスセルは、高い繰り返し周波数で高い消光比、低い半波電圧、圧電リンギング効果の利点を提供し、レーザー測距、レーザーライダー、医療用レーザー、産業用レーザーなどで広く使用されています。

WISOPTICは、KTPポッケルスセルの技術コンサルティング、設計サービス、カスタマイズされたテストサンプル、および高速配信標準製品を提供しています。

KTPポッケルスセルのアプリケーションに最適なソリューションについては、お問い合わせください。

KTPポッケルスセルのWISOPTICの利点

•広い光学帯域幅（0.5-3μm）

•低挿入損失

•低半波電圧

•低い動作電圧

•高い消光比

•非常に高いレーザー損傷しきい値

•圧電リンギング効果なし

•超高速電圧ドライバーを備えた高繰り返し率レーザーでの正確なスイッチング

•広い温度範囲で動作するように熱補償された設計

•コンパクトなデザイン、取り付けと調整が非常に簡単

•高耐環境性と長寿命の高品質KTPクリスタル

KTPポッケルスセルのWISOPTICテクニカルデータ

KTPのペアの一方のサイズ （んん）	Xカット		Yカット		電気抵抗率 （オーム・cm）
	HWV @ 1064nm （V）	消光比 @ 633nm（dB）	HWV @ 1064nm （V）	消光比 @ 633nm（dB）
3×3×10	1200	> 20	1000	> 20	> 1011
4×4×10	1600	> 20	1300	> 20	> 1011
5×5×10	2000年	> 20	1600	> 20	> 1011
6×6×10	2300	> 20	1900	> 20	> 1011
7×7×10	2700	> 20	2200	> 20	> 1011
8×8×10	3100	> 20	2500	> 20	> 1011
9×9×10	3500	> 20	2800	> 20	> 1011
ダメージしきい値： > 600 MW / cm2 10 nsパルス@ 1064 nm（ARコーティング）